Огляд продукту
PVD Composite Thin Film Equipment – це промислова платформа для вакуумного осадження, розроблена для нанесення багатошарових, сплавних і нанокомпозитних тонких плівок. Інтегруючи магнетронне розпилення та джерела катодної дуги в одній вакуумній камері, система забезпечує точний контроль мікроструктури плівки, залишкової напруги та межфазної адгезії. Створена для безперервного виробництва та передових досліджень і розробок, платформа вміщує металеві, керамічні та полімерні підкладки з масштабованою геометрією камери.
-
![Обладнання для вакуумного осадження композитів PVD]()
Обладнання для вакуумного осадження композитів PVDЦя промислова платформа для вакуумного осадження композитів PVD об’єднує кілька методів осадження в одній камері для осадження однорідних, багато{0}}шарових металевих, сплавних або діелектричних...Переглянути більше -
![Гібридна система нанесення тонкої плівки PVD]()
Гібридна система нанесення тонкої плівки PVDГібридна система осадження тонкої плівки PVD об’єднує термічне випаровування, випаровування електронним пучком (e-beam) і магнетронне напилення RF/DC в одній вакуумній архітектурі. Ця платформа...Переглянути більше -
![Обладнання для тонкоплівкового багатопроцесного-процесу PVD]()
Обладнання для тонкоплівкового багатопроцесного-процесу PVDМульти{0}}обладнання для тонкоплівкового напилення PVD — це інтегрована платформа вакуумного осадження, розроблена для поєднання кількох методів виготовлення тонких{1}}плівок, зокрема...Переглянути більше -
![Обладнання для нанесення композитів PVD]()
Обладнання для нанесення композитів PVDОбладнання для промислового нанесення композитів PVD розроблено для виготовлення багато-компонентних, багато-шарових і нано-композитних-плівок. Система об’єднує джерела термічного випаровування,...Переглянути більше -
![Композитна тонкоплівкова система PVD]()
Композитна тонкоплівкова система PVDПромислова-система вакуумного нанесення покриттів із магнетронним напиленням (RF/DC/HiPIMS) і катодно-дуговим випаровуванням. Призначений для безперервного, багато{2}}нанесення тонких-шарів,...Переглянути більше -
![Обладнання для обробки композитних тонких плівок PVD]()
Обладнання для обробки композитних тонких плівок PVDPVD Composite Thin Film Equipment – це промислова вакуумна платформа, розроблена для синтезу багато-шарових, сплавних і сортованих тонких плівок. Побудований на основі модульної архітектури з...Переглянути більше
Технічні характеристики
|
Параметр |
Діапазон специфікацій |
|
Граничний вакуумний тиск |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite) |
|
Робочий тиск |
0,1 Па - 5.0 Па |
|
Температура основи |
Навколишнє середовище до 800 градусів (замкнутий-контур ПІД-регулювання) |
|
Джерела осадження |
Можливість конфігурації: DC/RF магнетронне розпилення, імпульсний DC, фільтрована катодна дуга |
|
Рівномірність товщини |
< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier |
|
Матеріал камери |
Нержавіюча сталь 304L/316L, механічно відшліфована та електро-полірована (Ra<= 0.4 um) |
|
Інтеграція джерела живлення |
СЧ-генератори (10-100 кГц), РЧ-генератори (13,56 МГц), імпульсне зміщення постійного струму |
|
Система контролю |
Промисловий ПЛК + IPC з автоматизованим виконанням рецептів, моніторингом блокування та реєстрацією даних партії |
Процес осадження композиту
У системі використовується гібридна архітектура фізичного осадження з парової фази, що поєднує технології магнетронного розпилення та катодної дуги.
Синергія багатьох-джерел:
Одночасна або послідовна робота кількох катодів дозволяє здійснювати різкі або градуйовані композиційні переходи вздовж стопки плівок.
Попереднє очищення йонним травленням:-
Етапи плазмового очищення радіочастотним або постійним струмом видаляють природні оксиди та поверхневі забруднення перед осадженням, щоб максимізувати адгезію-до-підкладки.
Контроль реактивного осадження:
-Спектроскопія із замкнутим циклом оптичної емісії (OES) регулює впорскування реактивного газу (O2, N2, C2H2), щоб підтримувати стабільну стехіометрію сполуки та запобігати отруєнню мішені.
Зміщення підкладки:
Синхронізовані імпульсні джерела живлення зміщення бомбардують зростаючу плівку високо-енергетичними іонами, ущільнюючи мікроструктуру та змінюючи залишкову напругу стиску.
Кіноматеріали
Обладнання підтримує широкий спектр цільових матеріалів для індивідуальних функціональних вимог:
Нітриди та карбіди перехідних металів:
TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN для стійкості до зносу та корозії.
Нанокомпозитні та багатошарові системи:
TiSiN, AlTiSiN, металеві/керамічні наношари для надзвичайної твердості та високо{0}}термічної стабільності.
Прозорі електропровідні оксиди (TCO):
ITO, AZO, IGZO для оптоелектронних і фотоелектричних застосувань.
Чисті метали та сплави:
Ti, Cr, Al, Cu, нержавіюча сталь, NiCr для електричних контактів і дифузійних бар'єрних шарів.
Додатки
Точні ріжучі інструменти:
Нанесення над-покриттів із низьким -тертям (наприклад, TiAlN) на твердосплавні вставки, свердла та торцеві-фрези для продовження терміну експлуатації за високих теплових навантажень.
Автомобільні компоненти:
Плівки для-зменшення тертя та-зносостійкості на поршневих кільцях, деталях упорскування палива та вузлах передач.
Оптоелектроніка та дисплеї:
Провідні оксидні шари з низьким-питомим опором і високим{1}}пропусканням для сенсорних панелей і підкладок сонячних елементів.
Медичні прилади:
Біологічно сумісні та зносостійкі-покриття на хірургічних інструментах і ортопедичних імплантатах.
Налаштування та конфігурація системи
Інженерні конфігурації адаптовані до конкретних обмежень виробничих потужностей і рецептів процесу:
Розмір камери:
Варіанти камер із циліндричною або прямокутною камерою, починаючи від пакетних систем науково-дослідних робіт (діаметром 500 мм) до великомасштабних-завантажувальних-систем замків (1000 мм+).
01
Вибір Pumping Suite:
Підбір рутових повітродувок, турбомолекулярних насосів і кріогенних насосів на основі необхідного часу простою-накачування та профілів навантаження газу.
02
Кріплення основи:
Індивідуальні ступені планетарного обертання, 3-обертання сателітів або модулі-roll-to-roll, розроблені для складних 3D-геометрій або безперервних полотен.
03
Рівень автоматизації:
Напівавтоматичні конфігурації ручного завантаження або повністю автоматизовані системи вакуумного перенесення з роботизованою обробкою субстрату.
04
Виробництво та контроль якості
Виявлення витоку:
Кожна вакуумна камера проходить перевірку на герметичність гелієвим мас-спектрометром до порогового значення < 1 x 10^-10 Па * м^3 / с.
Перевірка зварних швів:
Вакуумні-бічні зварні шви зварюються TIG, шліфуються та поліруються, після чого за запитом виконується рентгенівська -інспекція або проникнення.
Відповідність електротехніці та техніці безпеки:
Панелі керування, створені відповідно до стандартів NFPA 79 або CE/IEC, оснащені апаратним блокуванням потоку води, тиску газу та електричної безпеки.
Заводські приймальні випробування (FAT):
-Тестування перед транспортуванням включає 72-годинну безперервну{3}}висушку, перевірку продуктивності вакууму та пробне нанесення покриття за рецептами, визначеними клієнтом.
Правила підготовки місця:Документ із комплексними вимогами до об’єкта містить детальну інформацію про інтерфейси комунальних послуг (потік/тиск охолоджувальної води, електричне навантаження, стиснене повітря, вихлоп).
На-введення в експлуатацію на місці:Інженери виїзного обслуговування виконують механічне вирівнювання, перевірку герметичності вакууму, електричні з’єднання- та початкове калібрування.
Налаштування рецепту процесу:-Співпраця на місці з клієнтськими металургами та інженерами-технологами для фіксації цільових параметрів товщини плівки, напруги та твердості.
Підтримка життєвого циклу:Інтерфейс віддаленої діагностики, локалізований запас запасних частин і програми планового профілактичного обслуговування.
FAQ
Ми добре-відомі як один із провідних виробників і постачальників тонкоплівкового обладнання для композитних pvd у Китаї. Якщо ви збираєтеся придбати індивідуальне обладнання для композитної тонкої плівки PVD, виготовлене в Китаї, ласкаво просимо отримати прейскурант від нашої фабрики. Для консультації щодо ціни зв'яжіться з нами.
