Гібридна система нанесення тонкої плівки PVD

Гібридна система нанесення тонкої плівки PVD

Подробиці
Гібридна система осадження тонкої плівки PVD об’єднує термічне випаровування, випаровування електронним пучком (e-beam) і магнетронне напилення RF/DC в одній вакуумній архітектурі. Ця платформа забезпечує послідовне або спільне -осадження металів, сплавів і діелектриків без порушення вакууму, запобігаючи міжфазному окисленню. Створена для науково-дослідних установ і пілотних виробничих ліній, система обробляє підкладки розміром до 6 дюймів із автоматичним багато-обертанням.
Класифікація продуктів
Обладнання для композитної тонкої плівки PVD
 
Послати повідомлення
Опис
Технічні параметри

Гібридна система осадження тонкої плівки PVD об’єднує термічне випаровування, випаровування електронним пучком (e-beam) і магнетронне напилення RF/DC в одній вакуумній архітектурі. Ця платформа забезпечує послідовне або спільне -осадження металів, сплавів і діелектриків без порушення вакууму, запобігаючи міжфазному окисленню. Створена для науково-дослідних установ і пілотних виробничих ліній, система обробляє підкладки розміром до 6 дюймів із автоматичним багато-обертанням.

 

Технічні характеристики

 

Параметр

Специфікація

Граничний базовий тиск

< 5.0 x 10^-6 Pa (baked out)

Час-викачування

< 15 minutes to 1.0 x 10^-3 Pa

Розмір підкладки

Пластини діаметром до 6 дюймів / спеціальні тримачі

Рівномірність товщини плівки

<= +/- 1% across a 4-inch substrate (planetary rotation)

Джерела осадження

До 3 кишень електронного променя, 2 теплових човни, 4 магнетронних катода

Температура основи

Температура навколишнього середовища до 800 °C (контрольований ПІД)

Матеріал камери

304L / 316L електрополірована нержавіюча сталь

Відповідність вимогам безпеки

CE сумісний; компоненти, виготовлені за стандартами UL / NFPA за запитом

 

Ключові характеристики


Модульні розетки:Взаємозамінні фланці джерела дозволяють швидко змінювати конфігурацію між катодами розпилення та термічними/-променевими випарниками.


Архітектура ізоляції:Пневматичні засувки ізолюють технологічну камеру від високо-вакуумної труби, щоб мінімізувати утворення часток.


Моніторинг-на місці:Виділені порти для датчиків мікроваги з кварцевим кристалом (QCM) і оптичної емісійної спектроскопії (OES).


Блокований ПЛК безпеки:Апаратне блокування запобігає активації джерела під час високого тиску, збою охолоджувальної води або порушення безпеки.

 

Конфігурація вакуумної системи


Чорновий насос:Сухий спіральний насос (30 м^3/год) для усунення зворотного потоку вуглеводнів.


Насос високого вакууму:Турбомолекулярний насос з магнітною левітацією (1200 л/с для N2) із кріогенною пасткою.


Датчики:Комбіновані датчики Пірані та датчики з холодним катодом, що охоплюють атмосферу до 10^-7 Па.


Випічка:Картриджні обігрівачі із зовнішньою ізоляцією, що досягає температури до 150 °C.

 

Сумісність матеріалів і підкладок


Матеріали для випаровування:
Метали:
Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Cu, Ni


Діелектрики та оксиди: SiO2, TiO2, Al2O3, ITO


Напівпровідники:Si, Ge


Типи підкладок:Моно{0}}пластини кремнію, скло, кварц, поліімідні плівки та металева фольга.

 

Додатки


Оптоелектронні прилади:Прозорі провідні електроди (ITO) і багато{0}}шарові відбивачі для OLED і сонячних елементів.


Мікроелектронна упаковка:Під-металізація (UBM) і початкові шари для вафельної-упаковки.


Передові дослідження та розробки:Структури квантових пристроїв, тонкі плівки надпровідників і магнітні тунельні переходи (MTJ).

 

Параметри налаштування


Камерний масштаб:Розширені розміри для 12-дюймових підкладок або інтеграції бардачка.


Налаштування джерела:Спеціальні об’єми тигля, радіочастотні джерела живлення та модулі йонного{0}}осадження (IAD).


Автоматизація:Керування рецептами на сенсорному екрані або повна відповідність стандартам автоматизації SECS/GEM.

 

Контроль якості


Перевірка на герметичність:Тестування гелієвим мас-спектрометром на камеру (< 1 x 10^-10 Pa*m^3/s threshold).


Перевірки розмірів:Перевірка CMM відстаней-до-підкладки та допусків на фланці.


Електричні випробування:Ви-тестування напруги, перевірка безперервності заземлення та перевірка стану здоров’я на всіх лініях високої-напруги.

 

Встановлення та підтримка


Заводські приймальні випробування (FAT):Перед{0}}перевірка основного тиску, функціональності джерела та автоматизованих циклів на нашому підприємстві.


Польова установка:Механічне вирівнювання-на місці, перевірка підключення до мережі та приймально-здавальні випробування (SAT).


Документація:Повна поставка включає електричні схеми, схеми P&ID, резервні копії ПЛК і сертифікати випробувань млина.

 

FAQ

 

З: Чи може система перемикатися між реактивним напиленням і термічним випаровуванням за один цикл?

A: Так. Пневматичні затвори ізолюють кожне джерело, дозволяючи послідовне виконання без переривання вакууму.

З: Які вимоги до комунальних послуг закладу?

A: Потрібна 3-фазна напруга 380 В/480 В, охолоджуюча вода (від 18 до 22 °C при 0,3 МПа), стиснене повітря (від 0,5 до 0,7 МПа) і випускна лінія чорнового насоса.

З: Як запобігає перехресному-забрудненню між металевими джерелами?

A: Димові труби з окремими джерелами, спрямовані перегородки та фізичні жалюзі мінімізують перехресні -переговори під час кількох-запусків джерел.

 

Популярні Мітки: pvd гібридна система нанесення тонкої плівки, Китай pvd гібридна система нанесення тонкої плівки виробники, постачальники, фабрика

Послати повідомлення
Зв'яжіться з намиякщо у вас є запитання

Ви можете зв'язатися з нами по телефону, електронною поштою або через онлайн-форму нижче. Наш спеціаліст зв'яжеться з вами найближчим часом.

Зв'яжіться зараз!