Ця катодно-дугова система випаровування випаровує тверді катодні мішені за допомогою електричної дуги низької-напруги з високим{1}}струмом для створення повністю іонізованої металевої плазми. Порівняно зі стандартним термічним випаровуванням або магнетронним напиленням, цей процес PVD забезпечує вищу щільність плазми та чудову адгезію-плівки до-підкладки, призначену для функціональних,-зносостійких і декоративних твердих покриттів.
Технічні характеристики
|
Параметр |
Специфікація Діапазон / Значення |
|
Розміри камери |
Спеціальні циліндричні/коробкові конфігурації (стандарт: Φ600 мм x 600 мм до 1200 мм x 1200 мм) |
|
Граничний вакуумний тиск |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and rotary vane/roots pump suite) |
|
Час простою насоса- |
Атмосферне до 8,0 x 10^-3 Па дюймів<= 15 minutes (Dry, clean, empty chamber) |
|
Джерела живлення дуги |
Імпульсні генератори та генератори постійного струму (Вихід: 0 - 200регульований, пульсація<= 1%) |
|
Катодні джерела |
Від 2 до 6 магнітних-фільтрованих або стандартних круглих/прямокутних джерел дугового керування |
|
Напруга зміщення підкладки |
0 - -1000В постійного струму/імпульсне зміщення (частота: 10 - 100 кГц) |
|
Обертання підкладки |
Планетарний або одно{0}}осьовий механізм обертання (1 - 15 об/хв) з водяними/електричними проходами |
|
Оперативний контроль |
ПЛК + промисловий ПК з автоматичним виконанням рецептів і блокуванням вручну |
Ключові характеристики
Магнітні відфільтровані джерела:Внутрішні магнітні канали відхиляють неіонізовані мікрокраплі від потоку пари, забезпечуючи низьку шорсткість поверхні (Ra) для точних деталей.
Контроль зміщення замкнутого-контуру: Synchronized pulsed bias regulation manages ion bombardment energy dynamically, relieving residual internal stress in thick ceramic coatings (>10 мкм).
Висока швидкість іонізації:Ефективність плазмової іонізації досягає 40% - 80%, створюючи щільні хімічні зв’язки без зовнішньої радіочастотної допомоги.
Модульна конструкція камери:Виготовлено з нержавіючої сталі 304/316L з електро-полірованими внутрішніми поверхнями (Ra<= 0.4 um), minimizing outgassing and vacuum cycle times.
Конфігурація вакуумної системи
Насоси для чорнової обробки та коріння:Дво-ступінчасті роторно-лопатеві насоси в поєднанні з механічними допоміжними повітродувками справляються з початковою чорновою обробкою та великими газовими навантаженнями під час реактивного впорскування N2 або C2H2.
Насоси високого вакууму:Турбо-молекулярні насоси магнітної левітації (1200 - 3200 л/с) підтримують високі швидкості відкачування залишкової водяної пари та легких газів.
Клапани та вимірювальні прилади:Пневматичні засувки, високо{0}}вакуумні ущільнювальні фланці ISO/CF і комбіновані датчики іонізації Пірані/гарячого{1}}катоду, інтегровані безпосередньо в контур блокування ПЛК.
Сумісність матеріалів і підкладок
Сумісні катодні мішені
Чисті метали:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Ni, Ag, Mo, W
Сплави та сполуки:TiAl, CrAl, TiSi, WC, графітові мішені для осадження алмаз-подібного вуглецю (DLC)
Матеріали підкладки
Тверді метали та карбіди:Цементовані карбіди (WC-Co), швидко-швидкорізальна сталь (HSS), ріжучі пластини з нержавіючої сталі
Напівпровідники та кераміка:Кремнієві пластини, глинозем (Al2O3), інженерна технічна кераміка
Додатки
Різальні інструменти та матриці:Нанесення TiN, TiAlN і CrN на свердла, кінцеві фрези та штампи для підвищення твердості поверхні до 2500 - 3500 HV і зменшення тертя.
Автомобільні компоненти:Зносостійкі-шари з низьким{1}}тертям на поршневих кільцях, пальцях форсунок і зубах шестерень.
Декоративні тверді покриття:Кольорові PVD-покриття (золото, рожеве золото, бронзовий метал, чорний титан) для обладнання та корпусів побутової електроніки.
Функціональні тонкі плівки:Провідні та бар'єрні шари для упаковки мікроелектроніки та напівпровідників.
Налаштування
Розмір камери:Масштабовані варіації обсягу, що відповідають певній геометрії партії та площі виробництва.
Вихідна гібридизація:Багато{0}}катодні інтеграції, що поєднують джерела катодної дуги з катодами незбалансованого магнетронного розпилення (UBMS) для градієнтних багатошарових плівок.
Кріплення основи:Спеціальні планетарні пристосування, локалізовані нагрівальні масиви до 600 градусів і налаштовані канали живлення.
Інтеграція програмного забезпечення:Спеціальна логіка рецептів ПЛК, реєстрація даних SCADA та конфігурації промислової відповідності.
Контроль якості
Виявлення витоку:Тестування гелієвим мас-спектрометром для всіх камер і зварних швів, що гарантує загальну швидкість витоку<= 1.0 x 10^-9 Pa·m^3/s.
Перевірка електробезпеки:Випробування-на міцність діелектрика з високим потенціалом, перевірка безперервності заземлення та перевірка реакції блокування перед укладанням у ящики.
Відстеження матеріалу:Звіти про випробування матеріалів (MTR), надані для конструкційної нержавіючої сталі, вакуумних ущільнень і компонентів ізоляції високої{0}}напруги.
Пробний-запуск перед поставкою:72-годинне безперервне випробування насосного комплексу, приводів обертання та джерел живлення під час моделювання циклів.
Встановлення та технічна підтримка
Інструкція з підготовки сайту:Utilities documentation covering floor load limits, cooling water flow rates (>15 м^3/год при 20 - 25 градусах), відведення вихлопних газів і перепади напруги (380 В/480 В, 3 фази, 50/60 Гц).
Введення в експлуатацію та приймання:Заводські приймальні випробування (FAT) на нашому підприємстві; Приймальні випробування на місці (SAT) і передача процесу виконуються на-майданчику місцевими інженерами.
Підтримка життєвого циклу:Захищена дистанційна діагностика VPN, запас запасних частин (мішені, екрани, ущільнювачі) і навчання технічного обслуговування місцевих спеціалістів.
Поширені запитання
З: Як система мінімізує утворення крапель (макрочастинок), властиве випаровуванню дуги?
A: У системі використовуються джерела катодної дуги з магнітним фільтром (магнітне керування та фільтрація каналу). Це згинає потік плазми, водночас затримуючи мікрокраплі на внутрішніх перегородках, утворюючи гладку морфологію плівки без{1}}крапель.
З: Який діапазон температур підкладки під час осадження та як керується теплом?
A: Діапазон робочих температур від 150 градусів до 500 градусів. Інтегровані радіаційні нагрівачі та замкнуті-контурні-канали водяного охолодження всередині тримача підкладки запобігають термічному спотворенню чутливих компонентів.
З: Чи може обладнання безперервно запускати автоматизовані виробничі цикли?
A: Так. Архітектура ПЛК автоматизує відкачування, кондиціювання мішені, запалювання дуги, контроль реактивного газу за допомогою контролерів масової витрати (MFC) і послідовність вентиляції в багато-серійних циклах.
З: Які вимоги до інженерних комунікацій мають бути готові на-сайті до доставки?
A: Вимоги включають стабільне постачання охолодженої води, стиснене повітря (0.6 - 0.8 МПа) для пневматичних клапанів, джерела електроенергії, що відповідають навантаженню системи (60 - 120 кВА), і регульовані лінії технологічного газу (аргон, азот, ацетилен).
Популярні Мітки: дугове випаровування тонкоплівкового обладнання, Китай дугового випаровування тонкоплівкового обладнання виробники, постачальники, фабрика

