Композитна тонкоплівкова система PVD

Композитна тонкоплівкова система PVD

Подробиці
Промислова-система вакуумного нанесення покриттів із магнетронним напиленням (RF/DC/HiPIMS) і катодно-дуговим випаровуванням. Призначений для безперервного, багато{2}}нанесення тонких-шарів, сплавів і нано{3}}композитних-плівок у масштабах виробництва.
Класифікація продуктів
Обладнання для композитної тонкої плівки PVD
 
Послати повідомлення
Опис
Технічні параметри

Промислова-система вакуумного нанесення покриттів із магнетронним напиленням (RF/DC/HiPIMS) і катодно-дуговим випаровуванням. Призначений для безперервного, багато{2}}нанесення тонких-шарів, сплавів і нано{3}}композитних-плівок у масштабах виробництва.

 

Технічні характеристики

 

Параметр

Специфікація Значення

Граничний вакуумний тиск

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and roots-rotary pump configuration)

Розміри камери

Нестандартні розміри від D 600 мм x 600 мм до D 1500 мм x 1500 мм (304/316L електро-полірована нержавіюча сталь)

Джерела осадження

Конфігурація: 2-6 катодів магнетронного розпилення / 2-4 джерела дуги

Потужність зміщення підкладки

Регульований від 0 до -1000 В постійного струму (імпульсний постійний струм для діелектричних підкладок)

Рівномірність товщини плівки

<= +/- 3% across standard planar holder (via dynamic planetary rotation)

Температура основи

Температура навколишнього середовища до 650 градусів (+/- 2 градус ПІД-контролю з замкнутим{3}}контуром)

Розподіл електроенергії

Радіочастота (13,56 МГц), постійний струм, імпульсний постійний струм і середня -частота (MF) із придушенням дуги

 

Ключові характеристики


Подвійна{0}}інтеграція технологій:Поєднує напилення (гладкі, аморфні складні плівки) і катодну дугу (високо{0}}осадження металу/сплаву) в одному циклі-викачування.


Управління газом із замкнутим-контуром:Контролери масового потоку (MFC) у поєднанні з оптичним моніторингом випромінювання (OEM) стабілізують парціальний тиск реактивного газу.


Механічна ізоляція:Багато{0}}осьові планетарні приводи ізолюють механічні підшипники від технологічної зони, запобігаючи забрудненню частинками.


Теплова архітектура:Стінки камери з подвійним-водяним{1}}охолодженням і захист від радіації запобігають тепловим спотворенням під час-роботи з високою потужністю.


Ядро автоматизації:Архітектура ПЛК Siemens S7-1500 і WinCC SCADA для блокування, моніторингу газу та живлення в реальному часі.

 

Конфігурація вакуумної системи


Чорновий поїзд:Роторно-лопатеві-насоси з прямим приводом, оснащені повітродувками Roots із магнітними рідинними ущільненнями.


Високий вакуум:Турбо-молекулярні насоси з магнітною левітацією (1200 - 3200 л/с) або кріогенні насоси.


Діагностика:Інтегровані тестові порти гелієвого мас-спектрометра та блокування автоматичної послідовності.

 

Сумісність матеріалів і підкладок


Цільові матеріали:
Метали:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, TiAl, CrAl, Si


Кераміка/компаунди:TiN, CrN, TiAlN, DLC, Al2O3, SiO2


Субстрати:Інструментальні сталі (H13, M2, твердосплавні вставки), конструкційні сплави титану/алюмінію, технічна кераміка та кремнієві пластини.

 

Програми та перевірена продуктивність


Ріжучі інструменти:Багатошарові покриття (TiAlN/TiN) із низьким-тертям і високою{1}}твердістю (TiAlN/TiN) для подовження терміну служби інструменту під час сухої високошвидкісної-обробки.


Автомобільний:Покриття проти зносу та проти{0}}задирів поршневих кілець і паливних пальців.


Аерокосмічна:Стійкі-до окислення тепловий бар’єр і захисні плівки на лопатях компресора та кріпленнях.


Оптика та електроніка:Провідні прозорі оксиди (ITO) і оптичні інтерференційні фільтри.

 

Параметри налаштування


Геометрія камери:Прямокутні конфігурації ящиків для пакетного завантаження в стелажі або циліндричні вбудовані геометрії.


Модернізація джерела:Змінні монтажні фланці катода для польового перетворення на CFUBMS.


Плазмове травлення:Іонні гармати типу Kaufmann-або джерела з порожнистим катодом для-очищення підкладки на місці.

 

Контроль якості та заводські випробування


Цілісність вакууму:Поріг випробування на витік гелію<= 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.


Оздоблення поверхні:Внутрішні зварні шви камери електро-поліровані до Ra<= 0.4 um.


ЖИР:72-години безперервного сухого випробування вакууму, руху та захисних блокувальних петель перед упаковкою в ящики.


Стандарти відповідності:Створено відповідно до директив CE щодо обладнання та стандартів ISO 9001. (Значки довіри: ISO 9001, CE, UL)

 

Встановлення та технічна підтримка


Пакет документації:Схеми P&ID, схеми електропроводки, вихідна логіка ПЛК і досьє на відповідність CE/UL.


Введення в експлуатацію:Польові інженери контролюють механічне розташування, підключення до комунальних мереж і перевірку герметичності.


SAT і передача рецептів:На-майданчику базові тести та оптимізація рецептів.

 

FAQ

 

З: Який час-вимкнення насоса до базового тиску?

A: Досягає < 5,0 x 10^-4 Па протягом 45 хвилин у чистих, сухих і теплих умовах навколишнього середовища.

З: Чи може система перемикатися між постійним і радіочастотним розпиленням у-процесі?

A: Так. Матриця потужності дозволяє програмно{1}}керовану послідовність між постійним струмом, імпульсним постійним струмом і ВЧ без порушення вакууму.

З: Які утиліти потрібні на-сайті?

A: Охолоджена вода (від 15 до 20 градусів при 0,3 до 0,4 МПа), стиснене повітря (0,6 МПа), технологічні гази високої -чистості (Ar, N2, O2 при 99,999%) і спеціальне 3-фазне промислове джерело живлення.

З: Як регулюється температура підкладки під час осадження?

A: Інтегровані інфрачервоні пірометри в поєднанні з радіаційними нагрівачами та ПІД-регулюванням із замкнутим-контуром.

 

Популярні Мітки: pvd композитна тонкоплівкова система, Китай pvd композитна тонкоплівкова система виробники, постачальники, фабрика

Послати повідомлення
Зв'яжіться з намиякщо у вас є запитання

Ви можете зв'язатися з нами по телефону, електронною поштою або через онлайн-форму нижче. Наш спеціаліст зв'яжеться з вами найближчим часом.

Зв'яжіться зараз!