Чисте обладнання для іонного покриття

Чисте обладнання для іонного покриття в основному інтегрує три технології: технологія чистого іонного покриття (PIC), технологія очищення іонів високої енергії (Ionbeam) та технологія розпилення магнетрона (Sputter) та її унікальна технологія чистого джерела іонного покриття. Ефективна система електромагнітної фільтрації та електромагнітна система сканування використовуються для ефективного фільтрації домішок, таких як нейтральні частинки та великі іонні скупчення частинок, значно покращуючи чистоту плазмового променя, що робить плівку більш щільною, більшою твердістю, стійкістю до зносу та корозійною стійкістю. Чисте обладнання для іонного покриття може бути покладено супер-алмазоподібними плівками TA-C з товщиною від кількох сотень нанометрів до більш ніж двадцяти мкм.

Експрес чисте обладнання для іонного покриття приймає ефективний електромагнітний фільтр, може ефективно фільтрувати частинки та домішки, інноваційна конструкція охолодження води, розсіювання тепла є більш ефективною;

Експрес із використанням чистої технології іонного покриття, низькотемпературного процесу покриття, процес покриття контролюється нижче 150 градусів, що може уникнути термічної напруги та деформації підкладки;

Висловлюйте нову конструкцію джерела ARC, застосування новітнього технологічного прориву, значно покращує довгострокову надійність джерела дуги, скоротить час технічного обслуговування;

Експрес чисте обладнання для іонного покриття з різноманітними джерелами розпилення магнетрону може забезпечити різноманітні експериментальні рішення для наукових досліджень та перевірки процесів;

Експрес алмазна фаза (зв’язок SP3) у підготовленому плівковому шарі може досягти більш ніж 75%, а його фізичні та хімічні властивості дуже схожі на алмаз, а плівка має надзвичайно високу твердість;

》A series of excellent features, such as >5000HV (>50GPA), надзвичайно низький коефіцієнт тертя (<0.1), can greatly improve the service life of coating products;

Експресуйте самоконтрольну автоматичну операційну систему інтелектуальних процесів забезпечує всебічні та зручні можливості редагування формул та виклику, оснащених системою моніторингу параметрів процесів у режимі реального часу, що дозволяє онлайн-пульт дистанційного керування.