Обладнання для-іонного нанесення тонкої плівки

Обладнання з допоміжним іонним-осадженням тонкої плівки серії IA-поєднує теплове випаровування електронним-променем із джерелом іонів Кауфмана або Енд-Холла. Енергійне іонне бомбардування (суміш аргон/кисень) під час осадження передає імпульс адатомам, усуваючи стовпчасті порожнечі, пригнічуючи поглинання вологи та стабілізуючи показники заломлення. Розроблена для високо{6}}точних досліджень і розробок і безперервного виробництва, камера з нержавіючої-сталі підтримує базовий тиск нижче 5 x 10^-6 Па для отримання щільних стехіометричних тонких плівок для оптики, датчиків і напівпровідників.

Ущільнення мікроструктури:Одночасне іонне бомбардування підвищує щільність упаковки поблизу об’ємних значень за рахунок руйнування меж зерен.

Внутрішній контроль стресу:Регульоване співвідношення іонів-до-прибуття атомів запобігає розшаруванню плівки на крихких підкладках (кремній, германій, плавлений кремнезем).

Покращена адгезія:Попереднє очищення за допомогою іонного травлення видаляє природні оксиди та поверхневі забруднення перед осадженням.

Автоматизація замкнутого-циклу:Архітектура ПЛК автоматизує послідовність вакууму, приведення в дію затвора, підвищення потужності та газові МФУ.

Теплоізоляція:Стінки-камери з водяним охолодженням і радіаційні екрани захищають підкладки від-випромінювання вогнища.

Високо-вакуумний насос:Турбомолекулярний насос магнітної левітації (1600 л/с для N2) для-безмасляної роботи.

Чорнова стадія:Поворотна лопатка-з прямим приводом у поєднанні з повітродувкою Roots для швидкого переходу.

Ущільнення та клапани:Пневматичні засувки з ущільнювачами з вітоном/металом-.

Блокування:Манометри Пірані та з холодним катодом, інтегровані в схеми захисту від надлишкового тиску.

Матеріали для випаровування:
Оксиди (SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5)
Фториди (MgF2, YF3)
Тугоплавкі метали (Ti, Cr, Al)

Матеріали підкладки:
Плавлений кремнезем, оптичне скло, ZnSe, кремнієві пластини, GaAs, нержавіюча сталь.

Прецизійна оптика:Анти{0}}покриття, смугові фільтри та дзеркала з високим-відбиттям для лазерних і телекомунікаційних систем DWDM.

ІЧ вікна:Захисні довговічні анти{0}}відбиваючі плівки на германієвій і кремнієвій тепловізійній оптиці.

Напівпровідники:Діелектричні ізоляційні плівки та металеві контактні пасиваційні шари.

Оптоелектроніка:Прозорі електропровідні оксидні шари для датчиків і плоских панелей.

Геометрія камери:Індивідуальні розміри конвертів для спеціалізованих виробничих пристосувань або широкоформатної-оптики.

Інтеграція джерела:Конфігурації подвійної електронної -гармати, термостійкі човни або джерела реактивного термічного крекінгу.

Автоматизація:SECS/GEM-сумісні-пакети програмного забезпечення для виробництва.

Пристосування для підкладки:Спеціальні тримачі для вигнутих лінз, мікро-призм або 300-міліметрових пластин.

Стандарти відповідності:Створено відповідно до вимог чистих приміщень CE та SEMI S2/S8.

Виявлення витоку:Тестування гелієвим мас-спектрометром усіх зварних швів (швидкість витоку<= 1 x 10^-10 Pa*m^3/s).

Записати-в:72 години безперервної сухої роботи механічних проходів і блокувань.

Перевірка однорідності:Спектрофотометричний аналіз, що підтверджує розподіл товщини в межах +/- 1% по тримачу.

Графік доставки:Стандартний час виготовлення, FAT і упаковки в ящики становить від 16 до 20 тижнів після технічного підпису- та депонування.

Підготовка місця:Попередньо наданий вичерпний посібник з експлуатації (із зазначенням потоку охолодженої води, потужності 380 В і стисненого повітря).

Введення в експлуатацію:В-встановлення на місці, калібрування та налаштування процесу старшими інженерами.

Підтримка життєвого циклу:Наявність критичних запасних частин (нитки розжарення, кристали кварцу, комплекти ущільнювачів) для швидкої доставки.