The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80% іонізація матеріалу твердого катода, що забезпечує високо{1}}бомбардування іонами високої енергії в межі підкладки для кращої адгезії плівки порівняно з магнетронним напиленням.
Вакуумна камера з-нержавіючої-сталі з подвійними{0}}стінками містить модульні джерела дуги та ПЛК-контрольований автоматизований цикл керування насосом-вниз,-плазмове травлення на місці, подачу реактивного газу та-багатошарове осадження.
Технічні характеристики
|
Параметр |
Специфікація |
|
Розмір камери |
Індивідуальний внутрішній діаметр (Phi 800 мм - Phi 1500 мм) |
|
Матеріал посудини |
Дво-стінні SUS304 / SUS316L із внутрішніми каналами охолодження |
|
Базовий тиск |
<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped) |
|
Час-простою насоса |
Атмосфера до 6,0 x 10^-2 Па дюймів<= 15 minutes (clean, empty) |
|
Дугові катоди |
Від 4 до 12 прямокутних або круглих джерел |
|
Джерела живлення |
Дуга постійного струму (0-200 A) і імпульсне зміщення (0-3000 В) |
|
Обертання підкладки |
Багато{0}}планетарне/одно{1}}обертання через магнітну рідину |
|
Система контролю |
Siemens S7-1500 PLC + IPC з автоматизованими рецептами |
|
Вимоги до комунальних послуг |
Охолоджуюча вода (18-25 С, 0,2-0,4 МПа); Стиснене повітря (0,5-0,7 МПа) |
Ключові характеристики
Висока швидкість іонізації:Мінімізує розшарування плівки через щільне іонне бомбардування.
Контрольована стабільність дуги:Програмовані тригери та -регулювання струму в замкнутому контурі пригнічують утворення макрочастинок (крапель) і запобігають отруєнню мішені реактивними газами (N2, C2H2, O2).
Модульні дугові джерела:Розташування боків і дверей адаптується до складної 3D-геометрії інструменту для рівномірного розподілу товщини.
Імпульсне зміщення підкладки:Синхронізовані імпульси напруги підбирають залишкову напругу, подрібнення зерна та мікротвердість.
Важкі-етапи ротації:Планетарні світильники витримують пакетні навантаження до 500 кг при високих теплових і вакуумних навантаженнях.
Конфігурація вакуумної системи
Чорнова обробка та коріння:Багато-ступінчасті сухі гвинтові насоси в парі з повітродувками Roots запобігають забрудненню вуглеводнями аж до перехідного тиску.
Високий вакуум:Турбомолекулярні або дифузійні насоси підтримують над-високий базовий тиск.
Захоплення та вимірювання:Додаткові холодні пастки з рідким азотом; широкий{0}}діапазон комбінованих датчиків Пірані/холодного катоду.
Матеріали для випаровування та сумісність з підкладкою
Катодні мішені:Чисті метали (Ti, Cr, Al, Zr, Mo, W) і мішені зі сплавів (TiAl, TiSi, CrAl, WC-Co).
Матеріали підкладки:Швидкорізальна сталь (HSS), твердосплавні пластини, інструментальна сталь для холодної та гарячої обробки (SKD11, H13), нержавіюча сталь і титанові сплави.
Попередня-обробка:Ультразвукове очищення водою з подальшим -на місці Ar+ або травленням іонами металу для видалення природних оксидів.
Додатки
Ріжучі інструменти:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >Твердість поверхні та стійкість до окислення 3000 HV.
Прес-форми та штампи:Захисні шари на прес-формах для лиття під тиском і штампах для запобігання задиранням і абразивному зносу.
Автомобільний:Покриття DLC і CrN на поршневих кільцях, шестернях і пальцях форсунок для зниження коефіцієнтів тертя.
Медичні прилади:Біосумісні покриття TiN/TiCN на хірургічних інструментах та імплантатах.
Параметри налаштування
Розміри камери та схема порту:Спеціальні порти для моніторингу гучності та оптичного випромінювання (OEM).
Генератори:Замовники-марки блоків живлення або спеціалізовані імпульсні{1}}конфігурації зміщення.
Фільтрація:Магнітні поля керування та фільтри макрочастинок для нуль{0}}оптичних/електронних покриттів.
Автоматизація:Інтеграція SCADA та підключення до бази даних SQL для реєстрації даних Industry 4.0.
Контроль якості та заводські приймальні випробування
Перевірка на герметичність:Тестування гелієвим мас-спектрометром усіх зварних швів (<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).
Електрична безпека:Перевірка опору ізоляції, заземлення та блокування відповідно до стандартів CE/NFPA.
Функціональний сухий хід:72-годинний безперервний механічний і циклічний тест на клапани.
Перевірка процесу:Випробування контрольного зразка на твердість наноіндентування та адгезію до подряпин.
Встановлення та підтримка
Попереднє-встановлення:Надані креслення інженерних комунікацій для електроенергії, води, витяжки та стисненого повітря.
Введення в експлуатацію:-Налаштування та пробні роботи на місці під наглядом інженерів заводу.
Навчання:Прак-навчання з експлуатації, заміни катода та планового технічного обслуговування.
Догляд за життєвим циклом:Безпечна віддалена діагностика VPN і локальне забезпечення запасними частинами.
FAQ
З: Як контролюються макрочастинки (краплі) під час осадження катодної дуги?
A: Пом’якшення покладається на оптимізовані струми дуги, високо-швидкісне магнітне керування та додаткові фільтри магнітних макрочастинок для над-вимог до надгладкої поверхні.
З: Який типовий коефіцієнт використання катодної мішені?
A: Коефіцієнт використання коливається від 55% до 70% на основі профілів катодної ерозії та конфігурації магнітного поля.
З: Чи може система керувати осадженням реактивного газу для багато{0}}елементних плівок, таких як TiAlN?
A: Так. Контролери масової витрати (MFC) використовують оптичне випромінювання або зворотний зв’язок із частковим тиском для стабілізації реактивних потоків (N2, CH4) і підтримки стехіометричного складу.
Q: Які вимоги до електроенергії?
A: Стандартні системи вимагають трифазного живлення (380-480 В, 50/60 Гц), із загальною потужністю навантаження від 60 кВА до 150 кВА залежно від кількості катодів.
Популярні Мітки: система багато-дугового іонного осадження, Китай багато-система іонного осадження виробники, постачальники, фабрика

