Багато-система дугового іонного осадження

Багато-система дугового іонного осадження

Подробиці
The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80% іонізація матеріалу твердого катода, що забезпечує високо{1}}бомбардування іонами високої енергії в межі підкладки для кращої адгезії плівки порівняно з магнетронним напиленням.
Класифікація продуктів
Мульти-дугове іонне тонкоплівкове обладнання
 
Послати повідомлення
Опис
Технічні параметри

The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80% іонізація матеріалу твердого катода, що забезпечує високо{1}}бомбардування іонами високої енергії в межі підкладки для кращої адгезії плівки порівняно з магнетронним напиленням.


Вакуумна камера з-нержавіючої-сталі з подвійними{0}}стінками містить модульні джерела дуги та ПЛК-контрольований автоматизований цикл керування насосом-вниз,-плазмове травлення на місці, подачу реактивного газу та-багатошарове осадження.

 

Технічні характеристики

 

Параметр

Специфікація

Розмір камери

Індивідуальний внутрішній діаметр (Phi 800 мм - Phi 1500 мм)

Матеріал посудини

Дво-стінні SUS304 / SUS316L із внутрішніми каналами охолодження

Базовий тиск

<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped)

Час-простою насоса

Атмосфера до 6,0 x 10^-2 Па дюймів<= 15 minutes (clean, empty)

Дугові катоди

Від 4 до 12 прямокутних або круглих джерел

Джерела живлення

Дуга постійного струму (0-200 A) і імпульсне зміщення (0-3000 В)

Обертання підкладки

Багато{0}}планетарне/одно{1}}обертання через магнітну рідину

Система контролю

Siemens S7-1500 PLC + IPC з автоматизованими рецептами

Вимоги до комунальних послуг

Охолоджуюча вода (18-25 С, 0,2-0,4 МПа); Стиснене повітря (0,5-0,7 МПа)

 

Ключові характеристики


Висока швидкість іонізації:Мінімізує розшарування плівки через щільне іонне бомбардування.


Контрольована стабільність дуги:Програмовані тригери та -регулювання струму в замкнутому контурі пригнічують утворення макрочастинок (крапель) і запобігають отруєнню мішені реактивними газами (N2, C2H2, O2).


Модульні дугові джерела:Розташування боків і дверей адаптується до складної 3D-геометрії інструменту для рівномірного розподілу товщини.


Імпульсне зміщення підкладки:Синхронізовані імпульси напруги підбирають залишкову напругу, подрібнення зерна та мікротвердість.


Важкі-етапи ротації:Планетарні світильники витримують пакетні навантаження до 500 кг при високих теплових і вакуумних навантаженнях.

 

Конфігурація вакуумної системи


Чорнова обробка та коріння:Багато-ступінчасті сухі гвинтові насоси в парі з повітродувками Roots запобігають забрудненню вуглеводнями аж до перехідного тиску.


Високий вакуум:Турбомолекулярні або дифузійні насоси підтримують над-високий базовий тиск.


Захоплення та вимірювання:Додаткові холодні пастки з рідким азотом; широкий{0}}діапазон комбінованих датчиків Пірані/холодного катоду.

 

Матеріали для випаровування та сумісність з підкладкою


Катодні мішені:Чисті метали (Ti, Cr, Al, Zr, Mo, W) і мішені зі сплавів (TiAl, TiSi, CrAl, WC-Co).


Матеріали підкладки:Швидкорізальна сталь (HSS), твердосплавні пластини, інструментальна сталь для холодної та гарячої обробки (SKD11, H13), нержавіюча сталь і титанові сплави.


Попередня-обробка:Ультразвукове очищення водою з подальшим -на місці Ar+ або травленням іонами металу для видалення природних оксидів.

 

Додатки


Ріжучі інструменти:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >Твердість поверхні та стійкість до окислення 3000 HV.


Прес-форми та штампи:Захисні шари на прес-формах для лиття під тиском і штампах для запобігання задиранням і абразивному зносу.


Автомобільний:Покриття DLC і CrN на поршневих кільцях, шестернях і пальцях форсунок для зниження коефіцієнтів тертя.


Медичні прилади:Біосумісні покриття TiN/TiCN на хірургічних інструментах та імплантатах.

 

Параметри налаштування


Розміри камери та схема порту:Спеціальні порти для моніторингу гучності та оптичного випромінювання (OEM).


Генератори:Замовники-марки блоків живлення або спеціалізовані імпульсні{1}}конфігурації зміщення.


Фільтрація:Магнітні поля керування та фільтри макрочастинок для нуль{0}}оптичних/електронних покриттів.


Автоматизація:Інтеграція SCADA та підключення до бази даних SQL для реєстрації даних Industry 4.0.

 

Контроль якості та заводські приймальні випробування


Перевірка на герметичність:Тестування гелієвим мас-спектрометром усіх зварних швів (<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).


Електрична безпека:Перевірка опору ізоляції, заземлення та блокування відповідно до стандартів CE/NFPA.


Функціональний сухий хід:72-годинний безперервний механічний і циклічний тест на клапани.


Перевірка процесу:Випробування контрольного зразка на твердість наноіндентування та адгезію до подряпин.

 

Встановлення та підтримка


Попереднє-встановлення:Надані креслення інженерних комунікацій для електроенергії, води, витяжки та стисненого повітря.


Введення в експлуатацію:-Налаштування та пробні роботи на місці під наглядом інженерів заводу.


Навчання:Прак-навчання з експлуатації, заміни катода та планового технічного обслуговування.


Догляд за життєвим циклом:Безпечна віддалена діагностика VPN і локальне забезпечення запасними частинами.

 

FAQ

 

З: Як контролюються макрочастинки (краплі) під час осадження катодної дуги?

A: Пом’якшення покладається на оптимізовані струми дуги, високо-швидкісне магнітне керування та додаткові фільтри магнітних макрочастинок для над-вимог до надгладкої поверхні.

З: Який типовий коефіцієнт використання катодної мішені?

A: Коефіцієнт використання коливається від 55% до 70% на основі профілів катодної ерозії та конфігурації магнітного поля.

З: Чи може система керувати осадженням реактивного газу для багато{0}}елементних плівок, таких як TiAlN?

A: Так. Контролери масової витрати (MFC) використовують оптичне випромінювання або зворотний зв’язок із частковим тиском для стабілізації реактивних потоків (N2, CH4) і підтримки стехіометричного складу.

Q: Які вимоги до електроенергії?

A: Стандартні системи вимагають трифазного живлення (380-480 В, 50/60 Гц), із загальною потужністю навантаження від 60 кВА до 150 кВА залежно від кількості катодів.

 

Популярні Мітки: система багато-дугового іонного осадження, Китай багато-система іонного осадження виробники, постачальники, фабрика

Послати повідомлення
Зв'яжіться з намиякщо у вас є запитання

Ви можете зв'язатися з нами по телефону, електронною поштою або через онлайн-форму нижче. Наш спеціаліст зв'яжеться з вами найближчим часом.

Зв'яжіться зараз!