Серія EBE-V600 — це промислова-платформа фізичного осадження з парової фази (PVD), розроблена для точного нанесення-плівкового покриття на оптичні компоненти, напівпровідникові пристрої та сучасні матеріали. Спрямовуючи високо-енергетичний магнітно сфокусований електронний промінь на вихідні матеріали всередині водяних-охолоджуваних тиглів, система досягає швидкого випаровування, зберігаючи теплові навантаження ізольованими від стінок камери.

Архітектура включає багато-кишенькові джерела електронів і подвійні датчики мікроваги з кварцового кристала (QCM), що забезпечує стехіометричну точність плівки та послідовне керування товщиною багато-шарових діелектричних або металевих пакетів.

Технічні характеристики

Технічний параметр	Специфікація Значення
Геометрія та матеріал камери	циліндрична посудина Φ600 мм х 600 мм; Електрополірована внутрішня частина SS304 із зовнішніми водяними сорочками охолодження
Граничний базовий тиск	<= 5.0 x 10^-5 Pa (achieved via 12-hour bake-out and high-vacuum pumping)
Час циклу-зниження	<= 15 minutes (From atmosphere to 1.0 x 10^-3 Pa)
Сила електронної гармати	Багатокишенькова конфігурація від 6 кВт до 12 кВт із відхиленням променя на 270 градусів
Ємність поду тигля	Від 4 до 6 кишень (взаємозамінні мідні/графітові тиглі, об’єм від 15 до 40 см3 на кишеню)
Обертання підкладки	Планетарний або прямий привід зі змінною швидкістю від 0 до 30 об/хв
Діапазон нагріву основи	Температура навколишнього середовища до 600 градусів через матрицю галогенних ламп зі замкнутим -контуром PID
Моніторинг товщини	Подвійні датчики QCM з автоматичним керуванням затвором

Ключові характеристики

Гармата з магнітним відхиленням на 270 градусів E-:Ізолює вольфрамову нитку від прямих шляхів випаровування, запобігаючи короткому-замиканню та подовжуючи термін служби між інтервалами технічного обслуговування.

Цифрове керування розгорткою:Програмовані растрові шаблони рівномірно розподіляють енергію електронів по поверхні випаровування, пом’якшуючи утворення точкових отворів і переважне випаровування під час осадження сплаву.

Відокремлена вакуумна архітектура:Лінії чорнової обробки та високо{0}}вакуумного насоса структурно ізольовані від рами основної камери для придушення передачі механічної вібрації під час росту плівки.

Матриця безпеки апаратного блокування:Моніторинг-ПЛК у реальному часі потоку охолоджувальної води, зворотного зв’язку високої-напруги, пневматичного тиску та цілісності ущільнення дверей.

Конфігурація вакуумної системи

Вакуумний під{0}}контур розроблено для швидкого циклу та низького основного тиску, щоб мінімізувати включення залишкового газу (H2O, O2, N2) у вирощувані плівки:

Високо-вакуумний насос:Молекулярний турбо-насос 1200 л/с, який підтримується двоступеневим-роторно-лопатевим насосом (або конфігурацією сухого спірального насоса для відповідності чистим приміщенням).

Запірна арматура:Засувний клапан із високою-провідністю з пневматичним приводом, який ізолює камеру під час операцій навантаження.

Вимірювання вакууму:Комбіновані датчики іонізації Пірані та холодного катоду, що охоплюють безперервний діапазон від атмосфери до 10^-6 Па.

Плівкові матеріали та підкладки

Сумісні джерела випаровування

Оксиди та діелектрики:SiO2, TiO2, Ta2O5, Al2O3, HfO2

Чисті метали:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Ni

Напівпровідники та провідники:Si, Ge, ITO (оксид олова індію)

Додатки

Фільтри оптичних перешкод:Багатошарове осадження стека з високим-і-низьким{2}}індексом для вузькосмугових-фільтрів і лазерних дзеркал.

Виготовлення напівпровідникових пристроїв:Формування омічного контакту, осадження оксиду на затворі та металеві затравкові шари.

Дослідження OLED і дисплеїв:Осадження тонким металевим катодом і багатошарові-тести на органічну/неорганічну пасивацію.

Тверді вогнетривкі покриття:Захисні зносостійкі-шари для механічних і аерокосмічних компонентів.

Налаштування

Розширення камери:Збільшена висота посудини або прямокутна геометрія, адаптована для інтеграції інструментів кластера.

Інтеграція джерела:Паралельні джерела теплового випаровування (резистивні човни) у поєднанні з електронно-променевими гарматами.

Іонно{0}}осадження (IAD):Інтеграція кінцевого-джерела іонів Холла або Кауфмана для ущільнення плівки та налаштування напруги.

Архітектура програмного забезпечення:Програмування рецептів PLC/HMI, сумісне зі структурами автоматизації Siemens S7 або Beckhoff.

Контроль якості

Мас-спектрометр для перевірки витоку гелію:Перед інтеграцією кожен камерний зварний виріб перевіряється на поріг браку < 1 x 10^-9 Па·м3/с.

Електрична відповідність:Ви-тестування діелектрика на стійкість до високої напруги та перевірка безперервності заземлення відповідно до вказівок CE/UL.

Заводські приймальні випробування (FAT):72-години безперервної сухої-тестової роботи, реєструючи криві базового тиску, повторюваність розгортки електронного променя та час реакції блокування. Тестова документація постачається разом із пристроєм.

Встановлення та технічна підтримка

Введення в експлуатацію сайту:Заводські-сертифіковані інженери керують механічним центруванням, перевіркою вакуумного витоку, наглядом за підключенням до мережі та початковим калібруванням.

Технічна підготовка:3-денний тренінг з експлуатації та протоколу технічного обслуговування на місці, що охоплює заміну нитки розжарювання, відновлення вакуумного клапана та редагування рецептів.

Результати документації:Повні технічні папки, включаючи схеми P&ID, схеми електричних проводів, файли резервних копій ПЛК і опис запасних частин.

Часті запитання

З: Який термін експлуатації вольфрамової нитки електронної пістолети та як вона обслуговується?

A: За стандартного робочого тиску (<= 10^-4 Pa) and clean source materials, filament lifespan averages 30 to 50 operational hours. A quick-access vacuum flange allows cartridge exchange within 20 minutes without venting the entire manifold.

З: Як система запобігає викиду під час осадження оксиду?

A: Цифровий генератор розгортки розподіляє енергію електронів по розрахованій растрової матриці на гранулі оксиду. Це усуває локальний перегрів, запобігає вибуховому кипінню та пригнічує викид мікро-крапель.

З: Які інженерні інфраструктури є обов’язковими на місці встановлення?

A: Cooling Water: Supply pressure 0.25 MPa to 0.4 MPa, flow rate >= 30 л/хв, температура від 18 до 25 градусів.
Електрична мережа: 3-фази, 380 В ± 10%, 50/60 Гц (або налаштовано на заводі відповідно до регіональних стандартів).
Стиснене повітря: сухе повітря від 0,5 МПа до 0,7 МПа для приводів пневматичних клапанів.

Питання: чи інтегровано дистанційний доступ до діагностики в систему керування?

A: Так. Ізольований порт Ethernet підтримує безпечне з’єднання VPN для віддаленого отримання журналів ПЛК і усунення несправностей програмного забезпечення нашою командою інженерів.

Популярні Мітки: тонкоплівкове обладнання для електронно-променевого випаровування, Китай, виробники, постачальники, фабрика обладнання для тонкоплівкового електронно-променевого випаровування